ウエハー製品 (KRYSTAL® Wafer)

KRYSTAL Wafer

 

KRYSTAL® Wafer

独自開発のZrO2 Buffer（下地層）を使用することにより、上に成膜するPZT薄膜を単結晶化し高性能化することができる優れた圧電MEMS用ウエハーです。

 

 

標準PZT薄膜 KRYSTAL® Wafer

Standard KRYSTAL Wafer Product List
  • 標準ウエハーサイズ: 4インチ、6インチ、8インチ

上部電極付き単結晶PZTウエハー

Krystal Wafer Standard

 

単結晶PZTウエハー

Krystal Wafer Standard

 

下部電極SRO/Ptウエハー(SRO/Pt/ZrO2)

Krystal Wafer Standard

 

下部電極Ptウエハー(Pt/ZrO2)

Krystal Wafer Standard

 

ZrO2バッファーウエハー(ZrO2)

Krystal Wafer Standard

Si基板への標準成膜以外にカスタム成膜対応として、ご希望膜厚での成膜やSOI基板への成膜、お客様からご支給頂いた基板への成膜サービスも行っております。

トップに戻る

 

 

新規開発技術

  • 積層単結晶PZT (2層PZT) 薄膜ウエハー

2-layer PZT waferRYSTAL® Wafer の優れた単結晶成膜技術を応用し、単結晶薄膜PZTを積層成膜。 圧電特性が向上し、高出力・高精度なアクチュエーター駆動を実現可能。
更に詳しく

トップに戻る

 

 

  • 窒化アルミニウム (AlN) 薄膜ウエハー

AlN薄膜ウエハー独自ZrO2バッファー層技術により、AlNエピタキシャル成長 on Siを実現。
更に詳しく

トップに戻る

 

Mechanism of KRYSTAL wafer