ウエハー製品 (KRYSTAL® Wafer)

KRYSTAL Wafer

 

KRYSTAL® Wafer

独自開発のZrO2 Buffer（下地層）を使用することにより、上に成膜するPZT薄膜を単結晶化し高性能化することができる優れた圧電MEMS用ウエハーです。

 

 

標準PZT薄膜 KRYSTAL® Wafer

    Standard KRYSTAL Wafer Product List
    • 標準ウエハーサイズ: 6インチ、8インチ

    上部電極付き単結晶PZTウエハー

    上部電極付きPZTウエハー

     

    単結晶PZTウエハー

    PZTウエハー

     

    下部電極SRO/Ptウエハー(SRO/Pt/ZrO2)

    下部電極SRO/Ptウエハー

     

    下部電極Ptウエハー(Pt/ZrO2)

    下部電極Ptウエハー

     

    ZrO2バッファーウエハー(ZrO2)

    ZrO2バッファーウエハー

    Si基板への標準成膜以外にカスタム成膜対応として、ご希望膜厚での成膜やSOI基板への成膜、お客様からご支給頂いた基板への成膜サービスも行っております。

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    新規開発技術

    • 積層単結晶PZT (2層PZT) 薄膜ウエハー

    2-layer PZT waferRYSTAL® Wafer の優れた単結晶成膜技術を応用し、単結晶薄膜PZTを積層成膜。 圧電特性が向上し、高出力・高精度なアクチュエーター駆動を実現可能。
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    • 窒化アルミニウム (AlN) 薄膜ウエハー

    AlN薄膜ウエハー独自ZrO2バッファー層技術により、AlNエピタキシャル成長 on Siを実現。
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    Mechanism of KRYSTAL wafer